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1、 PCBPCB干膜培訓(xùn)教材干膜培訓(xùn)教材撰寫：日期：2009年5月4日培訓(xùn)概要v1.簡單敘述干膜的特性、種類及結(jié)構(gòu)v2.詳細(xì)介紹干膜工藝流程：A操作規(guī)范 B工藝控制參數(shù) C生產(chǎn)控制（注意）事項(xiàng) D品質(zhì)要求 E機(jī)器保養(yǎng)v3.干膜工序常見問題的講解什么是圖像轉(zhuǎn)移什么是圖像轉(zhuǎn)移v制造印制板過程中的一道工序就是將照相底版上的電路圖像轉(zhuǎn)移到覆銅箔層壓板上，形成一種抗蝕或抗電鍍的掩膜圖像?？刮g圖像用于“印制蝕刻工藝”，即用保護(hù)性的抗蝕材料在覆銅箔層壓板上形成正相圖像，那些未被抗蝕劑保護(hù)的不需要的銅箔，在隨后的化學(xué)蝕刻工序中被去掉，蝕刻后去除抗蝕層，便得到所需的裸銅電路圖像。而抗電鍍圖像用于“圖形電鍍工藝”，

2、即用保護(hù)性的抗蝕材料在覆銅層壓板上形成負(fù)相圖像，使所需要的圖像是銅表面，經(jīng)過清潔、粗化等處理后，在其上電鍍銅或電鍍金屬保護(hù)層(錫鉛、錫鎳、錫、金等)，然后去掉抗蝕層進(jìn)行蝕刻，電鍍的金屬保護(hù)層在蝕刻工序中起抗蝕作用。干膜的特點(diǎn)1.有較高的分辨率，一般線寬可做4mil；2.干膜應(yīng)用在圖形電鍍工藝中，電鍍加厚在高而垂直的夾壁間進(jìn)行，在鍍層厚度小于抗蝕劑厚度時(shí)，可以防止產(chǎn)生鍍層突延和防止去膜時(shí)抗蝕劑嵌入鍍層下面，保證線條精度；3.干膜的厚度和組成一致，避免成像時(shí)的不連續(xù)性，可靠性高；4.應(yīng)用干膜，大大簡化了印制板制造工序，有利于實(shí)現(xiàn)機(jī)械化、自動化。干膜的類型vv1.溶劑型干膜使用有機(jī)溶劑作顯影劑和去膜

3、劑，例如用111三氯乙烷顯影，二氯甲烷去膜，這兩種溶劑遇火不燃燒。醋酸丁酯等有機(jī)溶劑也可用作顯影和去膜，但易燃燒，很不安全。溶劑型干膜是美國最早研制并投入大量生產(chǎn)的一種干膜，我國早期也研制過。它的優(yōu)點(diǎn)是技術(shù)成熟，工藝穩(wěn)定，耐酸耐堿，應(yīng)用范圍廣。但是，使用這種干膜需要消耗大量的有機(jī)溶劑，需要價(jià)格昂貴的顯影和去膜設(shè)備及輔助裝置，生產(chǎn)成本高，溶劑有毒，污染環(huán)境，所以日趨以水溶性干膜所取代，僅在特殊要求時(shí)才使用。干膜的類型vv2.水溶型干膜它包括半水溶性和全水溶性兩種。半水溶性干膜顯影劑和去膜劑以水為主，并加有2-15的有機(jī)溶劑。全水溶性的干膜顯影劑和去膜劑是堿的水溶液。半水溶性干膜成本較低，而全水溶

4、性干膜的成本最低，毒性亦小。干膜的類型vv3.干顯影或剝離型干膜這種干膜不需用任何顯影溶劑，而是利用干膜的感光部分與未感光部分對聚酯薄膜表面和加工工件表面附著力的差別，在從曝光板上撕下聚酷薄膜時(shí)，未曝光的不需要的干膜隨聚酯薄膜剝離下來，在加工工件表面留下已曝光的干膜；由此得到所需要的干膜圖像。干膜工藝流程詳細(xì)介紹干膜工藝流程詳細(xì)介紹底片底片干菲林干菲林Cu基材基材磨板磨板曝光曝光顯影顯影蝕刻或電鍍蝕刻或電鍍褪膜褪膜貼膜貼膜 磨板的作用：基板前處理主要是解決表面清潔度和表面粗糙度的問題。粗化銅面，便于菲林附著在銅面上。磨板的種類：化學(xué)磨板、機(jī)械磨板。機(jī)械磨板工藝：以上關(guān)鍵步驟為酸洗和磨板段。酸洗

5、酸洗 水洗水洗 磨板磨板 水洗水洗 水洗水洗 吸干吸干 熱風(fēng)干熱風(fēng)干一、磨板操作規(guī)范操作規(guī)范v1.放板和接板人員都必須帶手套操作v2.兩手持板邊，不要裸手接觸到拼板單元內(nèi)v3.輕拿輕放，小心擦花板面，取板一塊一塊插架v4.放板時(shí)，先后板間距不能小于2cm，以免疊板 5.放板人員檢查板面是否有異常情況，如擦花、壓傷等工藝參數(shù)控制v1.H2SO4濃度濃度3-5%2.磨痕：磨痕：10-16MM 3.速度：速度：2.0-3.0m/min 4.水洗壓力：水洗壓力：1.0-2.0kg/cm2 5.烘干溫度：烘干溫度：85-95 生產(chǎn)控制（注意）事項(xiàng)生產(chǎn)控制（注意）事項(xiàng)v1.檢查各噴嘴是否堵塞、破損、缺少；

6、v2.檢查各過濾網(wǎng)是否干凈、破損；v3每次生產(chǎn)前根據(jù)不同板厚做磨痕試驗(yàn)，確認(rèn)OK后方可進(jìn)行生產(chǎn)。v4定時(shí)的進(jìn)行機(jī)器保養(yǎng)（保養(yǎng)詳見操作指示）磨痕試驗(yàn)v取一片未作圖形的厚度與生產(chǎn)板相同的廢板作測試板，打開輸送放板入上刷（下刷）位置關(guān)閉輸送打開上刷（下刷）調(diào)整手柄調(diào)壓到電流設(shè)定值磨板8-10秒關(guān)閉磨刷打開輸送取出測試板、測量磨痕寬度在工藝條件內(nèi)（寬度均勻一致、磨痕均勻），不合要求，調(diào)整磨刷，重新試磨痕；(生產(chǎn)前.每班一次)品質(zhì)要求品質(zhì)要求v6.1板面無氧化、無油污、無水跡、無膠跡v6.2磨痕均勻，無擦花、刮痕v6.3板面清潔，孔內(nèi)及板面干燥機(jī)器保養(yǎng)機(jī)器保養(yǎng)v1.1.取出吸水棉泡入清水中取出吸水棉泡入

7、清水中v2.2.水洗、酸洗缸的清洗：水洗、酸洗缸的清洗：水洗缸、酸缸各加入NaOH,濃度為5-10%，開循環(huán)噴洗2hr,排凈廢液加入清水于標(biāo)準(zhǔn)液位,開循環(huán)噴洗30分,排除廢水加入清水至標(biāo)準(zhǔn)液位,往水洗缸.酸缸各加入5L H2SO4,開循環(huán)噴洗2hr,排凈廢液；v7.6.加入清水于標(biāo)準(zhǔn)液位,開循環(huán)噴洗30分,排除廢水；v7.7.加入清水于標(biāo)準(zhǔn)液位,開循環(huán)噴洗15分,檢查傳送.噴嘴.壓力表運(yùn)行是否正常;排除廢水 二二、貼貼 膜膜v貼膜時(shí)，先從干膜上剝下聚乙烯保護(hù)膜，然后在加熱加壓的條件下將干膜抗蝕劑粘貼在銅面上。干膜中的抗蝕劑層受熱后變軟，流動性增加，使抗蝕劑流入板面的微觀結(jié)構(gòu)內(nèi)，借助于熱壓輥的壓

8、力和抗蝕劑中粘結(jié)劑的作用完成貼膜 貼膜的作用：是將干膜貼在粗化的銅面上。保護(hù)膜保護(hù)膜干菲林干菲林 貼膜機(jī)將干膜通過壓轤與銅面附著，同時(shí)撕掉一面的保護(hù)膜。二二、貼貼 膜膜操作規(guī)范操作規(guī)范v1.貼膜人員戴手指套、雙手持板邊進(jìn)行操作v2.生產(chǎn)時(shí)手不要接觸到熱壓輥v3.生產(chǎn)不同尺寸的板時(shí)選擇最合適的干膜尺寸v4.割膜人員割膜時(shí)檢查板邊的平整度工藝參數(shù)控制工藝參數(shù)控制v貼膜壓力：3.0-5.0kg/cm2貼膜速度：1.0-1.8m/min貼膜溫度：1105壓膜進(jìn)板溫度：505壓膜出板溫度：555生產(chǎn)控制（注意）事項(xiàng)生產(chǎn)控制（注意）事項(xiàng)v1.根據(jù)不同板的尺寸,裝上相適應(yīng)尺寸干膜；v2.裝上干膜,調(diào)整上/下

9、干膜對整齊,過熱轆后檢查是否OK且干膜兩端熱轆是否粘有干膜碎：v3.貼膜之前每塊板必須經(jīng)過轆塵，減少塵埃v4.放板貼膜時(shí),板與板之間距必須保持3-5mm以上以免疊板v5.把剛貼膜板趁熱割膜,垂直插架冷卻,不可熱板疊板；生產(chǎn)控制（注意）事項(xiàng)生產(chǎn)控制（注意）事項(xiàng)v6.從插板架上收板后只能斜著靠在放板架上,不能平疊，以免壓傷干膜流膠；v7.沒用完的干膜用黑色膠紙包扎,并且平著擺放貯存以防錯(cuò)位；v8.每割膜200PNL需更換刀片一次并檢查割膜效果;v9.壓膜后需靜放15分鐘方可曝光,壓膜48H之內(nèi)必須曝光完畢,否則返洗處理;v10.保證壓膜出板溫度超過50;品質(zhì)要求品質(zhì)要求v1.貼膜前板面進(jìn)行轆塵清潔

10、v2.貼膜前板面溫度505v3.貼膜無起皺，無氣泡v4.板邊割膜整齊，無干膜碎三三、對位曝光對位曝光v曝光即在紫外光照射下，光引發(fā)劑吸收了光能分解成游離基，游離基再引發(fā)光聚合單體進(jìn)行聚合交聯(lián)反應(yīng)，反應(yīng)后形成不溶于稀堿溶液的體型大分子結(jié)構(gòu)。曝光的作用是曝光機(jī)的紫外線通過底片使菲林上部分圖形感光，從而使圖形轉(zhuǎn)移到銅板上。干菲林干菲林Cu基材基材底片底片三三、對位曝光對位曝光曝光反應(yīng)過程曝光反應(yīng)過程v在曝光過程中，干膜的光聚合反應(yīng)是需要經(jīng)過一個(gè)過程才能完成的。如下：單體消耗增加曝光時(shí)間增加誘導(dǎo) 區(qū)單體耗盡 區(qū)單體耗盡 區(qū)操作規(guī)范操作規(guī)范v1.對位人員對位前對自己的臺面用菲林水進(jìn)行清洗確保臺面干凈v2

11、.對位前檢查菲林與工卡要求的版本相一致v3.對位粘膠紙時(shí)保證其在菲林的遮光邊上，對位人員不允許留長指甲及戴戒指類，以免刮花菲林v4.拿板的時(shí)候必須輕拿輕放并放置在放板架上v5.曝光人員曝光之前對曝光玻璃和MYLAR進(jìn)行清洗工藝參數(shù)控制工藝參數(shù)控制 v參數(shù)控制:曝光能量:6-8級 真空度：650-750mm/hg;臺面溫度：20 2 生產(chǎn)控制（注意）事項(xiàng)生產(chǎn)控制（注意）事項(xiàng) v1.每班生產(chǎn)前首先檢查菲林型號與MILOT卡,生產(chǎn)板型號是否一致。對位前需對菲林進(jìn)行檢查其版本和周期是否正確v2.曝光人員人員生產(chǎn)之前必須做曝光尺試驗(yàn)，控制在6-9級，線寬在小于0.1mm時(shí)曝光尺可調(diào)至6-7級，且每4小時(shí)

12、做一次曝光尺。v3.做首板經(jīng)顯影后給QC檢查,并且做首板記錄表；做首板 OK后方可批量生產(chǎn)。生產(chǎn)控制（注意）事項(xiàng)生產(chǎn)控制（注意）事項(xiàng)v4.抽真空時(shí)需要加趕氣動作，確保曝光良好 v5.對位10-15pnl板需用粘塵轆清潔曝光菲林、曝光臺面、對位臺一次；每對位20-30pnl板需送檢菲林一次；每曝光30分鐘，需用菲林水清潔曝光機(jī)玻璃與MYLAR一次。v6.曝光完成后的板停放15MIN以上再顯影v7.每菲林曝光次數(shù)嚴(yán)格按照程序文件規(guī)定控制:500-600次報(bào)廢品質(zhì)要求品質(zhì)要求v1.對位時(shí)干膜的聚脂薄膜不被撕起v2.對位時(shí)沒有偏孔、對反等情況v3.曝光圖象清晰，無曝光不良情況1.1.溫濕度要求：203

13、C，5510%。(干菲林儲存的要求，曝光機(jī)精度的要求，底片儲存減少變形的要求等等。）2.2.潔凈度要求：達(dá)到萬級。（主要是圖形轉(zhuǎn)移過程中完全正確的將圖形轉(zhuǎn)移到板面上，而不允許出現(xiàn)偏差。）3.3.抽真空要求：圖形轉(zhuǎn)移的要求，使圖形轉(zhuǎn)移過程中不失真。曝光操作環(huán)境的條件（無塵房控制）顯影的作用：是將未曝光部分的干菲林去掉，留下感光的部分。顯影的原理：未曝光部分的感光材料沒有發(fā)生聚合反應(yīng)，遇弱堿Na2CO3（0.8-1.2%)溶解。而聚合的感光材料則留在板面上，保護(hù)下面的銅面不被電鍍或蝕刻藥水溶解。四、顯顯 影影顯影流程顯影流程v入板顯影循環(huán)水洗1循環(huán)水洗2循環(huán)水洗3循環(huán)水洗4清水洗吹干烘干操作規(guī)范操

14、作規(guī)范v1.放板時(shí)，先后板間距不能小于2cm，以免疊板v2.接板人員戴手套接板、插架時(shí)一塊一塊的插架，確保板面不被刮花v3.檢查有無撕膜干凈、批量性的顯影不凈問題工藝參數(shù)控制工藝參數(shù)控制 v參數(shù)控制：Na2CO3濃度：0.81.2%顯影液溫度：302 顯影壓力：2.00.5kg/cm2 水洗壓力：1.0-2.0kg/cm2 烘干溫度：5060 顯影速度：3.0-4.0m/min生產(chǎn)控制（注意）事項(xiàng)生產(chǎn)控制（注意）事項(xiàng)v1.生產(chǎn)前檢查各工藝參數(shù)是否在控制范圍之內(nèi)v2.生產(chǎn)每2-4小時(shí)檢查一次噴嘴是否堵塞v3.接板人員接板的時(shí)候檢查板面情況，如有顯影不凈或過度、掩膜孔是否破裂。及時(shí)反饋出來并及時(shí)的

15、作出調(diào)整參數(shù)v4.定時(shí)的進(jìn)行機(jī)器保養(yǎng)（保養(yǎng)詳見操作指示）v5.每2小時(shí)做1次氯化銅試驗(yàn)，確認(rèn)是否有顯影不凈問題品質(zhì)要求品質(zhì)要求v板面無保護(hù)膜、干膜碎v板面無膠跡、無擦花v無顯影過度、顯影不凈 vNPTH孔無破孔顯影點(diǎn)測試顯影點(diǎn)測試v 將已貼干膜的未曝光板三至四塊（可選用返將已貼干膜的未曝光板三至四塊（可選用返洗板），約等于藥水缸的長度，按正常條件洗板），約等于藥水缸的長度，按正常條件調(diào)節(jié)好參數(shù)開啟顯影機(jī)，將板一塊接一塊放調(diào)節(jié)好參數(shù)開啟顯影機(jī)，將板一塊接一塊放入顯影機(jī)，等第一塊剛出顯影缸，最后一塊入顯影機(jī)，等第一塊剛出顯影缸，最后一塊完全進(jìn)入顯影缸時(shí)，立即關(guān)掉顯影泵，將板完全進(jìn)入顯影缸時(shí)，立即關(guān)

16、掉顯影泵，將板傳出顯影機(jī)，觀察顯影干凈的長度達(dá)到傳出顯影機(jī)，觀察顯影干凈的長度達(dá)到40-60%為合格。為合格。機(jī)器保養(yǎng)機(jī)器保養(yǎng)v取出吸水棉泡入清水中;清洗過濾網(wǎng)v顯影缸水洗缸的清洗：排空水洗缸.顯影藥水,加入清水至標(biāo)準(zhǔn)液并加入NaOH,濃度為5%,開循環(huán)噴洗2h后排掉，加入清水至標(biāo)準(zhǔn)液噴淋10min排掉。v加入清水至標(biāo)準(zhǔn)液并加入H2SO4,濃度為3開循環(huán)噴洗2h后排掉，再每缸加入清水至標(biāo)準(zhǔn)液位開循環(huán)噴洗10分,排凈廢水；v把吹風(fēng).烘干段的風(fēng)刀拆下清洗干膜工序常見的問題v1.顯影后銅表面留有殘膜（顯影不凈）v2.掩孔法效果不良v3.導(dǎo)線變細(xì)或未曝光區(qū)的光致抗蝕層顯影時(shí)不易被沖洗掉（曝光不良）v4.顯影時(shí)干膜受損或顯影后發(fā)現(xiàn)干膜起翹或邊緣不整齊（顯影過度）v5.當(dāng)導(dǎo)線電鍍錫鉛時(shí)出現(xiàn)光致抗蝕膜層邊緣起翹而造成滲錫現(xiàn)象（滲鍍）干膜工序常見的問題v6.干膜起皺v7.干膜與基板銅表面之間出現(xiàn)氣泡 謝謝大家！謝謝大家！